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  研磨液 EM-3040
一:用途
采用严格的工艺控制生产而成,乳液结构致密,比表面积相对更小,颗粒分布均匀,可以达到粗糙度极低的表面抛光效果,用于制备抛光液,广泛应用于硅单芯片,蓝宝石芯片,半导体混合物芯片,硬盘,镜头,铝合金,液晶玻璃,金属表面的抛光。
二:特点
◆ 使金属零件表面的氧化皮容易从工件表面抛光除去,提高抛光效率;
◆ 良好的润滑性,清洗性及一定的防锈性能。
三:性状

 密度20℃g/cm
 1.302
 外观
 半透明
 PH值
 9.6
 粘度25℃
 3.2

四:包装     
◆ 25L     ◆ 208L
五:使用方法
研磨抛光液的添加量是根据水质的产生磨削量来决定的,水质硬磨削量大,则研磨抛光液的添加量应该多一些。由于离心式抛光机在相同的时间内磨削量大,所以抛光液的添加量应该大一些。一般情况下,螺旋振动抛光液的添加量占研磨槽内容积 6-10%,在零件抛光过程中具有缓冲,清洗作用,螺旋振动抛光水的添加量占容积 3-5%。离心式抛光机水的添加量在混合抛光磨料和工件面上4-5 公分即可。
六:存放注意
适宜的存储条件为4-50°C,阴暗封闭的不锈钢、镀层钢板或者塑料容器内,不宜使用铝、铜或一般钢材容器。在上述存储条件下保质期为一年以上。

 

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